描述：HTR-01A快速退火爐係列采用紅外輻射加熱技術，可實現1-10片樣品同時進行，可實現4寸晶圓片吋樣品快速升溫和降溫，同時搭配超高精度溫度控製係統，可達到的溫場均勻性，對材料的快速熱處理(RTP)、快速退火(RTA)、快速熱氮化(RTN)、快速熱氧化(RTO)及金屬合金化等研究和生產起到重要作用。

主要應用領域：

快速熱處理(RTP)，快速退火(RTA)，快速熱氧化(RTO)，快速熱氮化(RT

廠商性質
生產廠家
更新時間
2025-02-12
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品牌	Microtrac/拜爾	產地類別	國產
應用領域	電子,冶金,航天,電氣

HTR-01 桌式4英寸快速退火爐

HTR-01A快速退火爐係列采用紅外輻射加熱技術，可實現1-10片樣品同時進行，可實現4寸晶圓片吋樣品快速升溫和降溫，同時搭配超高精度溫度控製係統，可達到的溫場均勻性，對材料的快速熱處理(RTP)、快速退火(RTA)、快速熱氮化(RTN)、快速熱氧化(RTO)及金屬合金化等研究和生產(chan) 起到重要作用。

主要應用領域：

快速熱處理(RTP)，快速退火(RTA)，快速熱氧化(RTO)，快速熱氮化(RTN);離子注入/接觸退火;

金屬合金;

熱氧化處理;

化合物合金(砷化家、氮化物等);多晶矽退火;

太陽能電池片退火;高溫退火;

高溫擴散。

產(chan) 品特點

● 快速加熱和降溫: 最高可控升溫速率可達50 ℃/s，特定條件下可以達到100 ℃/s。冷壁水冷設計能夠達到較大的降溫速率，特定條件下可達30 ℃/s。

● 精確控溫: 采用工業(ye) 級溫控器進行PID精確控溫，目標溫度與(yu) 設定溫度曲線一致性高，可實現室溫至1200 ℃的溫度精確控製。

● 適應多種工藝環境: 滿足多種工藝氣氛下的熱處理（氮氣、氬氣等）。同時，通過選配真空泵，可以在真空條件下進行退火，最高真空度可達10^-5Pa。

● 配備觀察窗口: 通過觀察窗口，可以實時觀察熱處理過程中的樣品變化。同時，可以結合相關(guan) 測試方法進行原位測試分析。

● 超高安全係數: 采用爐壁超溫報警係統和冷卻水流量報警係統，保障儀(yi) 器使用安全。

● 售後服務：，能快速反應客戶售後需求。

最大樣品尺寸	4英寸（直徑20mm）
控溫範圍	RT~1200℃
升溫速率(max)	50℃/s
高溫段降溫速率（max）	600℃/min
溫度均勻性	≦1%
控溫精度	±0.1℃
氣體(ti) 流量	標配1路，可擴展至多路
放樣管徑	Ф210mm*320mm
放樣數量	4-10個(ge)
真空度	真空度可以達到10-5
控製方式	支持真空、氧化、還原、惰性氣體(ti) 等工藝氣氛，也可設置通過軟件控製真空及通氣時間

產品谘詢

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快速熱處理(RTP)，快速退火(RTA)，快速熱氧化(RTO)，快速熱氮化(RTN);離子注入/接觸退火;

金屬合金;

熱氧化處理;

化合物合金(砷化家、氮化物等);多晶矽退火;

太陽能電池片退火;高溫退火;

高溫擴散。

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