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2017-10-19
+2020-10-20
+2016-07-08
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詳細介紹
| 品牌 | 其他品牌 | 產地類別 | 國產 |
|---|---|---|---|
| 應用領域 | 環保,能源,電子,航天,綜合 |
RTP4-1200型全溫區快速退火爐
關(guan) 鍵詞：快速退火爐，RTP, 200℃/S
RTP4-1200型快速退火爐快速熱處理退火爐簡稱 RTP（Rapid Thermal Processing Furnace），在吸收了生產(chan) 製造工藝的基礎上自主研發了該款產(chan) 品。該設備不但擁有極快的升溫速率200℃/S，而且在燒結工藝運行完結，直接將試樣在高溫區取出。實現物理狀態下的最快降溫。我們(men) 的工程師們(men) 巧妙地利用了冷壁工藝，在綠色節能環保的基礎上真正的實現了試樣的極速升降溫.多重保護功能，過溫報警，過熱報警，過熱自動保護，水壓報警，水壓異常自動保護是材料研究的重要設備，目前在各大高校，科研院所及生產(chan) 單位廣泛使用。
一、RTP4-1200型快速退火爐應用領域
快速熱退火 (RTA); 離子注入後退火
石墨烯等氣象沉積，碳納米管等外延生長
快速熱氧化 (,RTO); 熱氮化 (RTN);
矽化 (Silicidation);
擴散 (Diffusion);
離子注入後退火 (Implant Annealing);
電極合金化 (Contact Alloying);
晶向化和堅化 (Crystallization and Densification);
化合物半導體(ti) ：
√LED芯片
√光通訊芯片
√射頻芯片
√功率半導體(ti) 芯片
2.應用的工藝：
√離子注入後快速退火
√ITO鍍膜後快速退火
3.其他應用領域：
氧化物、氮化物生長
矽化物合金退火
砷化镓工藝
歐姆接觸快速合金
氧化回流
其他快速熱處理工藝
產(chan) 品特點：
可測大尺寸樣品：可測單晶片樣品的尺寸為(wei) 1-8英寸。
壓力控製係統創新設計：高精度控製壓力，以滿足不同的工藝要求。
存儲(chu) 熱處理工藝：方便工藝參數調取，提高實驗效率，數據可查詢。
快速升溫：最高升溫速率可達200℃/s。
程序設定與(yu) 氣路擴展：可實現不同溫度段的精確控製，進行降溫段的自動轉接，並能夠對工藝菜單進行保存，方便調用。采用MFC精確控製氣體(ti) 流量，最多可支持6路氣體(ti) ，實現不同氣氛環境（真空、惰性氣氛、氧氣、氫氣、混合氣等）下的熱處理。
全自動智能控製：采用全自動智能控製，包括溫度、時間、氣體(ti) 流量、真空、冷卻水等均可實現自動控製。
超高安全係數：采用爐門安全溫度開啟保護、溫控器開啟權限保護以及設備急停安全保護三重安全措施，保障設備使用安全。
分區控溫：分區域控製加熱功率，提高溫度均勻性。
RTP4-1200型快速退火爐主要技術參數：
溫度範圍 | 100 – 1300 ℃ |
升溫速率 | 2 — 200 ℃/秒可調 |
密封石英腔內(nei) 麵尺寸 | 215 X 140X 14 毫米 |
樣品最大尺寸 | 4英寸 |
計算機控製器 | PC 機控製，內(nei) 存 4G,500G硬盤，處理器：I3 以上及快速熱處理編程控製軟件RTP-500的控製軟件. |
溫度設定範圍 | 100-1300℃ |
溫度重複性 | +/-1℃ 6區控溫 |
測溫精確度 | 100-1300全溫度段精度>0.5% |
測溫裝置 | K型熱電偶 |
溫度曲線 | 自動記錄，保存，文本格式轉換，支持彩色分頁打印 |
1000℃連續工作時間 | 雙閉環溫度控製,穩態溫度穩定性±2℃ ,1000℃連續工作>1小時 |
光源 | 1.25KW X 13 鹵鎢燈 |
電源 | 380 V 40A 三相 四線(三火線, 零線)，50/60Hz |
水源 | 自來水或循環水, 水壓 1—3 kg / 平方厘米, 流量6-8升/分 |
冷卻方式 | 水冷，風冷,氣冷 |
安全裝置 | 過溫報警，過熱報警，過熱自動保護，水壓報警，水壓異常自動保護 |
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