描述：JKLR-420高低溫半導體冷是可以使用顯微鏡載物片載樣，且容易使用的通用型冷熱台。此係列冷熱台為大區域冷熱台，主要用於等溫分析，不需要非常高的加熱和冷卻速率，溫度的熱穩定性優於0.1°C。

樣品放置在載物片上，載物片直接放置在拋光的加熱元件上且可以進行15mm的X、Y方向移動。樣品腔室是氣密的，氣體閥可以控製腔室內的環境，即惰性氣體或濕度。為了減小樣品上的溫度梯度，加熱台上的光孔隻有2.5mm

JKLR-420高低溫半導體(ti) 冷熱台

高低溫冷熱台的結構和工作原理

高低溫冷熱台主要由製冷係統、加熱係統、溫度控製係統和測試腔室等組成。製冷係統通常采用液氮或機械製冷，加熱係統采用電加熱，溫度控製係統采用高精度的溫度傳(chuan) 感器和控製算法進行控製。測試腔室是一個(ge) 密閉的空間，可以放置需要進行溫度控製的樣品。

高低溫冷熱台的工作原理是將樣品放置在測試腔室中，通過製冷係統將測試腔室降溫到所需的低溫，再通過加熱係統將測試腔室升溫到所需的室溫。在溫度控製過程中，溫度控製係統會(hui) 不斷監測測試腔室的溫度，並根據需要進行調整，以保證溫度的精確控製。

高低溫冷熱台的優(you) 點和應用領域

高低溫冷熱台具有精度高、穩定性好、操作簡便等優(you) 點，因此在科研和工業(ye) 生產(chan) 中得到了廣泛的應用。例如，在材料科學領域中，高低溫冷熱台可以用於(yu) 研究不同溫度下材料的物理和化學性質；在航空航天領域中，高低溫冷熱台可以用於(yu) 模擬高空環境中的溫度變化；在電子行業(ye) 中，高低溫冷熱台可以用於(yu) 測試半導體(ti) 器件在不同溫度下的性能表現。

JKLR-420高低溫半導體(ti) 冷熱台

是可以使用顯微鏡載物片載樣，且容易使用的通用型冷熱台。此係列冷熱台為(wei) 大區域冷熱台，主要用於(yu) 等溫分析，不需要非常高的加熱和冷卻速率，溫度的熱穩定性優(you) 於(yu) 0.1°C。

樣品放置在載物片上，載物片直接放置在拋光的加熱元件上且可以進行15mm的X、Y方向移動。樣品腔室是氣密的，氣體(ti) 閥可以控製腔室內(nei) 的環境，即惰性氣體(ti) 或濕度。為(wei) 了減小樣品上的溫度梯度，加熱台上的光孔隻有2.5mm。

參數：

溫度範圍：-196℃到420℃（-196℃需要冷卻係統選項）

在線溫度/時間曲線

樣品區域53.5 x 43 mm

X、Y方向移動距離15 x 15mm

樣品夾持器76 x 26mm 標準載玻片

氣密樣品室，可以控製樣品環境

上滑蓋方便導入樣品

可用於(yu) 透射和反射光

台體(ti) 尺寸- 166 x 90 x 24 mm

100 歐姆白金傳(chuan) 感器

全程溫度穩定性和精度<0.1°C

內(nei) 蓋可以增加溫度穩定性

最大升溫速率50°C/min

物鏡最小工作距離6 mm

聚光鏡最小工作距離13.2 mm